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项目名称
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铜基原子层沉积前体
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项目信息
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1.* 项目技术领域
重点新材料先导工程
其它
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2.* 项目技术描述
GreenCentre开发的一系列含铜前体分子广泛适用于微电子制造领域的原子层沉积（ALD）工艺。原子层沉积工艺的沉积过程需要使用热稳定性高、挥发性好的专用材料。目前已经证明，具有高热定性和良好的挥发性的GreenCentre前体分子非常适合的原子层沉积前体。
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3.* 项目的技术优势
GreenCentre前体分子因以下性能而成为特别适用于原子层沉积工艺的前体分子：
· 优异的热稳定性；
· 良好的挥发性；
· 与氢气和等离子的反应性；
· 不含干扰沉积过程的氧或卤素；
· 通过原子层沉积生成高纯度膜。
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4.* 项目技术优势的可持续性：微电子制造和使用产生的碳足迹仅次于运输业产生的碳足迹。在原子层沉积工艺中使用GreenCentre的含铜前体化合物能进一步微型化半导体互联等微电子设备。因此，在原子层沉积工艺中使用GreenCentre前体能极大地降低设备运行能耗，减少微电子制造过程的一般废物。
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5.* 项目的技术风险:
本技术目前处于早期开发阶段，需要进行全面的性能分析，以更精确地量化市场机会。
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6.* 项目当前发展状况和进度
含铜前体已进行公斤级制造，已在热原子层沉积和等离子原子层沉积中使用含铜前体完成初步研究。为继续开展下一阶段的研究工作，需要识别和确定具体的终端用户，以进一步开发、采用本项技术。虽然公司已经开发了大量的前体分子并申请了专利保护，但还需要开展更多研究对更多的原子层沉积前体分子进行全面的表征和测试。
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7.* 预期达到的市场价值:
Moors Law预测，本项技术的应用将进一步促进半导体的微型化进程。
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8.* 知识产权形式
专有技术；专利
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9.尚需解决的技术问题描述
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10.合作方式
技术许可；合作研发
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如您想获得更多项目信息，请联系services@beijing-ontario.org